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正文卷 第一百三十九章 部领导视察
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    第一百三十九章 部领导视察 (第3/3页)

真空提拉炉,真空度高达负的5次幂,主要负责单晶棒的制备。现在张铁牛同志正在采用直提拉法制备单晶棒。大家从这个观察窗口往里看,是不是非常漂亮,非常迷人”。

    在李国成的介绍下,大家轮流通过观察窗观看提拉过程。弄得张头紧张无比,好在没有出现问题。

    拉晶过程中固态晶体与液态融液的交界处会形成的明亮光,显得灿烂多姿。每一个观看的人都被吸引,并赞叹不已。

    所有人看完后,李国成把大家引导到切片区、研磨区和氧化区,介绍每个过程的工作原理和作用。

    当大家来到光刻机旁边,看着极具现代工业美感的光刻机发射出的紫光,紫光照射在光刻胶上,形成复杂的图案,看得大家更是惊奇不已。

    昨天李国成为了避免麻烦,把光刻机的外壳进行了更换,用拉丝工艺处理的表面,低调而奢华。

    拿出一块准备好的掩膜版,递给了赵爸,“这个就是收音机专用芯片的内部结构图”,等大家轮流看完,李国成接着说:“大家请看这里”。

    说着,李国成把光刻机的外壳拿掉,里面的结构一览无余。

    “这个就是大家手里拿的掩模板,上面平行紫光透过掩模板,通过这里的精密透镜组,缩小图形,然后照射到光刻胶上,通过化学反应,被照射部分曝光变硬,这个过程和照相机的原理类似”。

    李国成拿起一块完成曝光的晶圆,来到刻蚀机旁边。

    “这个是刻蚀设备,首先要把曝光过的晶圆放入这个液体里浸泡一定的时间,洗去不需要的光刻胶。然后放入中间这个液体里,进行刻蚀,得到想要的芯片结构”。

    李国成一一演示,中间过程把样品放到大家眼前,递上放大镜,让大家观察。看到上面密密麻麻精细的刻痕,大家内心被深深的震撼。

    接下来的热扩撒过程只是介绍了原理,然后把已经完成扩撒的晶圆拿到后期车间,切片、封装、测试,所有流程进行了详细地介绍。

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    (本章完)

    

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